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標題: 新思助攻加速啟動台積電N2製程設計 3680家登 1560中砂 6196帆宣 [列印本頁]

作者: mojeku 時間: 2023-5-14 20:08:05 標題: 新思助攻加速啟動台積電N2製程設計 3680家登 1560中砂 6196帆宣

新思助攻加速啟動台積電N2製程設計 3680家登 1560中砂 6196帆宣

2023.05.14

新思科技宣布，與台積電(2330)合作，在台積電最先進的N2製程中提供數位與客製化設計EDA流程。相較於N3E製程，台積電N2製程採用奈米片(nanosheet)電晶體結構，在相同功耗下可提升速度達15% ，或在相同速度下可減少30%的功率，同時還能提高晶片密度。新思科技對整體 EDA技術的大量投入讓設計人員能夠快速啟動N2製程設計，不僅為SoC(客製化晶片)帶來差異化同時也能縮短上市時程。

台積電設計基礎架構管理部負責人Dan Kochpatcharin表示，台積電與新思科技協助雙方客戶在台積電最先進的N2製程中透過新思科技完整的EDA解決方案，實現一流的設計結果。雙方長期的合作幫助創新者在各式應用中滿足或超越最嚴苛的產品設計目標；這些應用包括高效能運算、行動和人工智慧等。

新思科技EDA事業群策略與產品管理副總裁Sanjay Bali說，新思和台積電持續推進半導體技術，在最新的N2製程上挑戰設計物理的極限。在台積公司N2製程中運用新思科技數位與客製化設計流程能讓設計人員大大受益於台積公司N2製程的先進功能，並縮短上市時程。

新思科技獲認證的EDA和IP解決方案在台積電3奈米製程技術的成功，建立了雙方在N2上的合作基礎，迄今已有數十家業界領先公司藉此成功實現投片(tape-out)。新思科技的客戶可仰賴經認證的數位與客製化設計流程、新思科技基礎IP和介面 IP以及新思科技晶片生命週期管理(SLM)的晶片內(in-chip)製程、電壓和溫度(PVT)監控IP來提升N3設計。

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