中山大學獨創「超臨界流體技術」 助攻半導體新技術突破良率瓶頸

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中山大學物理系講座教授張鼎張（中）獨創「超臨界流體低溫缺陷鈍化技術」，師生團隊成立奈盾科技公司。（圖中山大學提供）



中山大學物理系講座教授張鼎張獨創「超臨界流體低溫缺陷鈍化技術」，師生團隊成立奈盾科技（Naidun-tech）公司，有望助攻半導體新技術突破良率瓶頸，不僅獲得科技部價創計畫補助，更吸引日本第一大半導體設備商東京威力與台灣友達青睞，成為東京威力在台灣唯一投資的新創公司。

什麼是超臨界流體？張鼎張指出，超臨界流體是一種物質狀態，固體吸熱變液體，液體加熱變氣體，氣體再加壓超過臨界溫度及臨界壓力，物質兼具液體與氣體特性，就是超臨界流體。超臨界流體有較好滲透性和較強的溶解力，廣泛應用於萃取技術，常見包括萃取咖啡因，製造保養品、營養補充品與清潔劑等。

張鼎張說，「我們團隊則反其道而行，利用超臨界流體導入新物質。」在半導體尺寸微縮的趨勢下，可能有很多缺陷，運用在電子元件上可有效消除缺陷，讓元件性能與可靠度大幅提升。

張鼎張說，一般高溫的製程只要200度到300度就可搞定。透過這項技術可修補半導體材料內的斷鍵，讓不好的元件回到正常特性，改善漏電及導通電流，滿足舊有製程無法滿足的需求。

「至於成立公司，那是個意外！」張鼎張表示，原本「只是源自於科學探索的樂趣」，但因超臨界狀態的物理現象很特殊，充滿許多未知值得研究，在這個領域持續投入了15年的時間，在科學探索的過程中挖掘出工程應用的潛力。

張鼎張指出，新創公司團隊由豐富經驗的成員組成，其中也有他指導畢業多年的學生，這些畢業生有多年業界經驗，他希望學術研發成果成立新創公司獲得投資是好的開始，未來團隊還是要不斷努力把新技術導入產業，讓這項技術發光發熱。



中山大學獨創超臨界流體低溫缺陷鈍化技術可以有效提升元件性能與可靠度，並應用於12吋機台與晶圓樣本。（圖中山大學提供）




文章來源: 自由時報