ASML曝晶片業救星 台積攻這製程 光罩 家登 帆宣 閎康 1560中砂 4770上品 三福化

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ASML曝晶片業救星 台積攻這製程 光罩 家登 帆宣 閎康 1560中砂 4770上品 三福化

工商時報  2022.05.30

摩爾定律是否走到極限一直是半導體業界熱議的焦點，每一個製程世代質疑摩爾定律失效的聲音也從未間斷。獨家供應半導體微影設備大廠艾司摩爾（ASML）近日在一篇文章中指出，現有技術能實現1奈米製程，摩爾定律可持續生效10年甚至更長時間。而台積電為鞏固現有技術優勢，正朝向1奈米等更先進製程邁進。

摩爾定律是美國半導體大廠英特爾（Intel）創辦人之一戈登．摩爾（Gordon Moore）在1965 年所提出。電晶體數量左右了晶片的效能，摩爾當時發現，每個晶片上可容納電晶體數目，會按照幾何級數的法則增長，每1年約會增加1倍，運算性能提升 40%。

IT之家報導，ASML表示，在半導體領域，摩爾定律—這誕生於1965 年的前瞻推斷，扮演著如同光一樣的角色，指引晶片製造的每一次創新與突破，在過去的50 多年裡，摩爾定律不斷演進。

摩爾關於以最小成本製造複雜晶片的最初預測，也在演進過程中被轉述成各種各樣的表述，現在這個定律最常被表述為半導體晶片可容納的晶體管數量呈倍數增長。1975 年，摩爾修正自己預測：晶體管數量翻倍的時間從最初的1年上升到2年。

報導指出，摩爾認為，增加晶片面積、縮小元件尺寸以及優化器件電路設計是實現晶體管數量翻倍的三個重要因素。

ASML稱，在過去的15 年裡，很多創新方法使摩爾定律依然生效且狀況良好。從整個行業的發展路線來看，它們將在未來10年甚至更長時間內，讓摩爾定律繼續保持這種態勢。

在元件方面，目前的技術創新足夠將晶片的製程推進至少1奈米節點，此外，光刻系統分辨率的改進（預計每6 年左右縮小2 倍）和邊緣放置誤差（EPE）對精度的衡量也將進一步實現縮小晶片尺寸。

ASML強調，「只要我們還有想法，摩爾定律就會繼續生效。」